磁控溅射实验操作步骤.pdf

磁控溅射实骆操作步骤

检查水路:下到水网，接通冷却水，检查水压是否是够大，保护各水路畅通。

检查电源线路:总供电电源配线是个完好，地线是个接好，所有仪表电源开关全部处

二关闭状态。

检查分子系、机械系油是否标注到刻线处，训没有达到刻线标记应及时加油。

检查系统所有阅门是否全部处于初始设定状态，确定真空室完全处在抽真空前为封

闭状态。

二、磁控溅射室装入样蝇:

1启动总电源:开总电源开关，将“断水报警”拨扭拨到“报警。

2.打开氮气气瓶，开放气阀Sv1，声音停止后关闭放气阁。

3.用升降机升起真空室上盖。

4放入靶材和衬底，调整角虚和距离，用升降机关闭上盖

、抽真空;

启动机械系，打开旁抽闪Av1(当对退火炉抽真定时则为Ay2》，打开真空计，测量

真空。此时打开气闪SV4、SV5、SV6、SV7抽气路〈气拖此时为关闭)。

当真空计显示的真空度小于20pa时，关闭旁抽阀AV1《〈当对退火炉抽真空时则为

AV2)

打开电磁闪，按“运行”启动分子汞，打开阅板益GV1(当对退火炉室抽真空时则

为GVz)，当真空降到104pa时，关闭SV4。

四、磁控溅射镀膜:

开加热温控电源，设置所需温度，按“盘、有”按钮设置温度，按“ent”按钮确认，

长按“Run”按钮运行，调节功率旋钮进行加热。

看真空计，按“功能”键，将电离状态转为电阻状态。

向减射室充气:将相应气瓶阀门打开，流量计打到阅拧档，调节所需要的流量。通

过适当关闭闭板闪来调节工作压强，压强达到工作气压并稳定时,便可开始工作。

单一气体;0(SV6+SV4);N?(SV5+SV4)，Ar(SV7+SV4)

混合气体;Ar+N3〈SV7+SV5+SV4)，Ar+O(SV7+SV6+SV4)

射频溅射，按“盘、蛙”按钮设定溅射功率值(200W以下)，观察起辉情况，调节

射频匹配器旋钮将反射调至最小〈直流越射，调直流溅射的电压、电流，保持功率

在200w以下)。

5预溅射10min后，用岂脑软件控制，打开衬底挡板，开始溅射镀膜，同时开始计时。

五、停止溅射镀膜:

首先关闭衬底挡板，关闭射频〈或直流)电源，关闭流量计电源。

关闭溅射室进气阀SV4，关闭相应气瓶阅门，全开闸板阅，真空计开电离，用分子

泵直接抽气，真空度到10*pa时，关闭亲板阀。r

按“束亲六站人清-注长了过全“谍谋束中名也卫阔表册启天-世并关注潭。

取出样品，当衬底温度降为空温时，打开氨气气瓶阀门，开气阅SV1，向溅射室内