中职教育一年级上学期电子与信息《光刻》教案 .pdf

微课教学设计

课题名称3.2光刻所属课程微电子技术与器件制造

所属专业电子与信息技术授课教师

1.认识光刻工艺

2.认识涂胶工艺

知识

3.认识曝光工艺

4.认识显影工艺

学会理实一体化理解光刻工艺流程及方式

会学掌握正确光刻工艺流程

教学目标

乐学在学习光刻工艺的过程中，创设良好的教学情景

及小组合作学习氛围，增强团队合作意识

重1.集成电路光刻工艺主要流程

教学重、

难难2.涂胶的实施操作

教学方法讲授法、演示法

教学环节教师活动媒体设计时间

本项目从涂胶工艺任务入弓IB/INTRODUCTION

本顼目心映工艺任*入土心1

手，先让同学们对光刻工艺有一用工艺者一个标为了解；兼后禅泳收、

艺的任必奕施.让嫌者建一为T解兄刎工艺.主《»人：杯遍

个初步了解；然后详细介绍涂1分钟

课题引言

胶、曝光和显影等专业技能。通

过曝光和显影工艺的任务实施，

让同学们进一步了解光刻工艺。

1.认识光刻工艺17分

(1)预处理钟

预处理的目的就是在晶圆表面形

成一层底膜，以增强晶圆和光刻

胶之间的粘附性。

*•J

(2)软烘

在完成涂胶之后，需要进行

软烘(即软烘干)操作，这一步

教学内容

骤也被称为前烘。在旋转涂胶

前，在液态的光刻胶中通常含有

65%85%的溶剂。在旋转涂胶之

后，液态的光刻胶已经成为固态

的薄膜，但仍有10%—20%的溶

剂，容易沾污灰尘。通过光刻胶

软烘，可以使溶剂从光刻胶中挥

发出来(溶剂含量降至5%左右，

光刻胶厚度也会减薄），从而降

低了灰尘的沾污。同时，这一步

骤还可以减轻因高速旋转形成的

薄膜应力，从而提高光刻胶的粘

附性。

2.认识涂胶工艺

涂胶的目的就是在晶圆表面

上，涂上一层均匀、平整的光刻

胶。

°目前涂胶的方法，一般采用

旋转