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真空镀膜机考核试卷

考生姓名：__________答题日期：__________得分：__________判卷人：__________

一、单项选择题（本题共20小题，每小题1分，共20分，在每小题给出的四个选项中，只有一项是符合题目要求的）

1.真空镀膜技术按照蒸发源分类，以下哪一种不属于此类？（）

A.灯丝蒸发源

B.磁控溅射源

C.电弧蒸发源

D.激光蒸发源

2.以下哪种材料常用作真空镀膜机的镀膜材料？（）

A.铜

B.铝

C.橡胶

D.玻璃

3.真空镀膜机中的真空泵主要作用是什么？（）

A.抽取气体

B.加热蒸发源

C.旋转样品

D.控制蒸发速率

4.以下哪种方式不属于提高真空镀膜机真空度的方法？（）

A.使用高效真空泵

B.在真空室内增加冷却装置

C.减少真空室内的气体分子数

D.使用高真空阀门

5.真空镀膜机中的磁控溅射原理是什么？（）

A.阴极发射的电子撞击靶材，使靶材原子蒸发

B.阴极发射的电子在电场作用下加速，撞击靶材产生溅射

C.阴极发射的离子在磁场和电场作用下加速，撞击靶材产生溅射

D.阴极发射的电子在磁场和电场作用下旋转，撞击靶材产生溅射

6.以下哪种现象不属于真空镀膜机正常工作现象？（）

A.蒸发源发热

B.真空泵运行

C.镀膜室内有火花产生

D.镀膜室内有气体流动声

7.以下哪个单位用于表示真空度？（）

A.bar

B.Pa

C.kg/cm2

D.atm

8.在真空镀膜过程中，以下哪种方法可以调整膜层的厚度？（）

A.调整蒸发速率

B.调整蒸发源与样品的距离

C.调整真空泵的抽速

D.调整样品的温度

9.以下哪种材料常用作真空镀膜机的溅射靶材？（）

A.铜

B.铝

C.钛

D.铁

10.真空镀膜机在镀膜过程中，为什么需要使用挡板？（）

A.防止蒸发源过热

B.防止真空泵过载

C.控制膜层在样品上的分布

D.防止样品受到污染

11.以下哪种现象说明真空镀膜机真空度较好？（）

A.真空计示数上升缓慢

B.真空计示数下降迅速

C.真空计示数波动较大

D.真空计示数保持不变

12.在真空镀膜机中，以下哪种设备用于检测膜层厚度？（）

A.真空计

B.扫描电镜

C.磁控溅射源

D.四探针测量仪

13.以下哪种因素会影响真空镀膜机镀膜质量？（）

A.真空度

B.镀膜时间

C.样品温度

D.所有以上因素

14.以下哪种方式不属于真空镀膜机加热蒸发源的方法？（）

A.电阻加热

B.感应加热

C.电子束加热

D.燃料加热

15.以下哪种材料常用作真空镀膜机的基底材料？（）

A.铜

B.铝

C.玻璃

D.塑料

16.在真空镀膜过程中，以下哪种操作可能导致膜层质量下降？（）

A.提高真空度

B.增加镀膜时间

C.降低蒸发速率

D.镀膜室内温度过高

17.以下哪个部分不属于真空镀膜机的主要结构？（）

A.真空室

B.蒸发源

C.真空泵

D.冷却装置

18.以下哪种现象可能是真空镀膜机蒸发源堵塞的表现？（)

A.蒸发速率降低

B.蒸发速率提高

C.镀膜室内压力上升

D.镀膜室内温度下降

19.以下哪种方法可以提高真空镀膜机的工作效率？（）

A.减少真空泵数量

B.增加样品数量

C.提高蒸发速率

D.减少镀膜时间

20.以下哪种因素会影响真空镀膜机蒸发源的寿命？（）

A.蒸发速率

B.蒸发材料

C.蒸发时间

D.所有以上因素

二、多选题（本题共20小题，每小题1.5分，共30分，在每小题给出的四个选项中，至少有一项是符合题目要求的）

1.下列哪些因素会影响真空镀膜机的镀膜质量？（）

A.真空度

B.镀膜材料的纯度

C.样品的清洁度

D.镀膜时间

2.以下哪些方法可以用来清洁真空镀膜机的镀膜室？（）

A.真空吸尘

B.湿布擦拭

C.离子轰击

D.蒸汽清洗

3.真空镀膜机中的蒸发源可能包括以下哪些？（）

A.灯丝蒸发源

B.电子束蒸发源

C.磁控溅射源

D.化学气相沉积源

4.下列哪些是提高真空镀膜机真空度的措施？（）

A.使用高效率真空泵

B.减少真空室内的泄漏

C.使用冷冻泵

D.增加真空泵数量

5.以下哪些情况下需要更换真空镀膜机的蒸发源？（）

A.蒸发速率明显下降

B.蒸发源出现损坏

C.镀膜质量变差

D.蒸发源过热

6.以下哪些材料适合作为磁控溅射的靶材？（）

A.铝

B.镍

C.氧化物

D.塑料

7.真空镀膜机在维护保养时，以下哪些操作是正确的？（）

A.定期更换真空泵油

B.清洁真空室内的杂质

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