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2024年拓荆科技分析报告：薄膜沉积设备领军者，技术创新步伐加快.pdf

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    拓荆科技

    薄膜沉积设备领军者，技术创新步伐加快

    国内薄膜沉积设备领军者，业绩持续稳定增长

    拓荆科技成立于2010年，公司凭借多年的自主研发经验和技术积

    累，现已拥有多项具有国际先进水平的核心技术，形成了以PECVD、

    ALD、SACVD及HDPCVD为主的薄膜设备系列产品，在集成电路逻

    辑芯片、存储芯片制造等领域得到广泛应用。2023年公司业绩持续稳

    定增长，营业收入达27.05亿元，同比增长58.60%，归母净利润达6.6

    亿，销售毛利率达51.01%，同时公司在手订单充足，23年在手订单量

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