ihomogeneous contact potential mage of algan-grown sapphire substrate measured by kelvin probe force microscopy用探针力显微镜测量蓝宝石衬底上生长Algan GaN非均匀接触电位图.pdfVIP
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Jpn.J.Appl.Phys.Vol.40(2001)pp.L589–L591
Part2,No.6B,15June2001
2001TheJapanSocietyofAppliedPhysicsc
InhomogeneousContactPotentialImageofAlGaN/GaNGrownonSapphireSubstrate
MeasuredbyKelvinProbeForceMicroscopy
YasuyukiEGUCHI,ShigeruKISHIMOTOandTakashiMIZUTANI
DepartmentofQuantumEngineering,NagoyaUniversity,Furo-cho,Chikusa-ku,Nagoya464-8603,Japan
(ReceivedApril19,2001;acceptedforpublicationApril25,2001)
ThecontactpotentialofAlGaN/GaNonsapphiresubstrategrownbymetalorganicchemicalvapordeposition(MOCVD)was
measuredbyKelvinprobeforcemicroscopy(KFM).Aclearcorrelationwasobservedbetweenthetopographicimageandthe
contactpotentialimage.Thepotentialaroundthesurfacepitswasabout100mVlowerthanthatinthesurroundingregion.
Thissuggeststheexistenceofaneffectofthepitsontheelectricalpropertiesoftheepitaxiallayer.Eventhoughthediameters
ofthepitswere20–60nm,thediameteroftheaffectedlow-potentialregionwasaslargeas0.3–0.7µm.
KEYWORDS:AlGaN/GaN,KFM,contactpotential,pits
GaN-baseddeviceshaveattractedconsiderableattention
becauseoftheirpotentialforblue-light-emittingdevicesand
high-powerelectrondevices.However,thesignificantdif-
ferencesinthelatticeparameterandthethermalexpansion
coefficientbetweenGaNandsapphire/SiC,whichhavebeen
commonlyusedforsubstrates,typicallyleadtothreadingdis-
locationswithadensityof1089−2
–10cm.Itisveryimportant
tostudytheeffectofdefectsonthestructural,opticaland
electronicpropertiesinordertodeveloptheirfullpotential
effectively.Eventhoughtherearemanyreportsontheoptical
propertiesofGaN,1–3)therearefewreportsonstudiesinves-
tigatingtheeffectsofdefectsontheelectricalpropertiesof
theGaNepitaxiallayermicroscopicallyinanondestructive
manner.Recently,scanningcapacitancemicroscopy(SCM)
hasrevealedthepresenceofnegativechargeinthevicinityof
dislocations.4)Theobtainedcapacitanceimagehadcorrela-
tionwiththedislocations.Improvementinthemeasurement
techniquewillhelpustodiscusstheef
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