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p阱CMOS芯片制作工艺设计掺杂工艺参数计算.docx

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    p阱CMOS芯片制作工艺设计掺杂工艺参数计算

    p阱CMOS芯片制作工艺设计

    名目

    一．设计参数要求 2

    二． 设计内容 3

    1：PMOS管的器件特性参数设计计算。 3

    2：NMOS管参数设计及计算。 4

    3：p阱CMOS芯片制作的工艺实施方案； 5

    工艺流程 5

    4．光刻工艺及流程图(典型接触式曝光工艺流程为例)

    ........................................................................12

    5：掺杂工艺参数计算； 14

    P阱参杂工艺计算 14

    ②PMOS参杂工艺计算 15

    ③NMOS参杂工艺

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