操作PVD设备的方法.pdfVIP

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2024-05-29 发布于四川
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操作PVD设备的方法.pdf

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根据本发明，提供一种操作PVD设备以在半导体衬底上形成的导电特征上执行清洁步骤及沉积步骤的方法，所述方法包括以下步骤：提供PVD设备，其包括腔室，所述腔室具有衬底支撑件、靶、用于将RF偏压施加到所述衬底支撑件的RF偏压信号供应器及用于将电信号供应到所述靶的电信号供应器；将其上具有导电特征的所述半导体衬底定位在所述衬底支撑件上；通过将至少一种惰性气体引入所述腔室、将RF偏压施加到所述衬底支撑件及将具有相关联的电功率的电信号供应到所述靶来执行清洁步骤；及通过在所述清洁步骤期间不向所述衬底支撑件施加R

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN118098955A

(43)申请公布日2024.05.28

(21)申请号202311143182.3H01L21/02(2006.01)