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本发明涉及一种AB位共掺杂锰离子卤化物纳米材料的合成方法，合成方法包括以下步骤：1)将溴化铯等原料和A位掺杂物原料、B位掺杂物原料进行混合，混合后进行表面活化处理，再进行高能球磨，得到混合物；2)混合物加入到反应溶剂和配体的混合溶液中，在紫外光辅助下进行反应，实现配体钝化，得到反应物；3)反应物进行氧化硅包裹，得到超顺磁颗粒；4)超顺磁颗粒进行干燥、球磨和消除静电处理，得到AB位共掺杂锰离子卤化物纳米材料。本发明通采用固相法合成纯度较高的AB位共掺杂的锰离子金属卤化物，与普通锰离子金属卤化物纳米
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117887453A
(43)申请公布日2024.04.16
(21)申请号202410087266.8B82Y20/00(2011.01)
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