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本发明公开了一种版辊真空电镀工艺,包括以下步骤:步骤一:版辊进行清洁工序以将版辊表面的污染物去除,然后进行干燥工序以使版辊的表面保持干洁;步骤二:将清洁后的版辊送入真空操作室,对真空操作室进行抽真空;步骤三:利用溅射镀膜装置对版辊进行镀膜工序,溅射镀膜装置包括离子输出组件和靶材,在镀膜工序中,离子输出组件输出带电荷的离子,离子射向靶材,以使靶材表面的原子离开靶材,原子射向版辊,以在版辊的表面形成镀层。版辊在清洁和干燥后送入真空操作室,利用离子输出组件向靶材喷射带电荷的离子,离子使靶材表面的原子离
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117867452A
(43)申请公布日2024.04.12
(21)申请号202311697976.4
(22)申请日2023.12.12
(71)申请人鹤山市精工制版有限公司
地址5
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