一种片上光模场整形的光栅耦合器及制备方法.pdfVIP

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2024-04-10 发布于四川
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一种片上光模场整形的光栅耦合器及制备方法.pdf

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本申请涉及一种片上光模场整形的光栅耦合器及制备方法，其包括依次层叠设置的衬底、绝缘层和波导覆盖层；沿着层叠方向，所述波导覆盖层中间隔地设置有光耦合传输层和光模场整形层，且所述光耦合传输层位于所述绝缘层和所述光模场整形层之间；所述光模场整形层包括多个同心布置的环形结构，所述环形结构包括分布成环状的多个折射单元，每一个所述环形结构与所述波导覆盖层位于该环形结构中的部分构成环形单元，且同一个环形结构中的折射单元的折射率相等，在任意相邻的两个环形单元中，位于内侧的环形单元的有效折射率小于位于外侧的环形单

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117849947A

(43)申请公布日2024.04.09

(21)申请号202410029329.4G02B6/26(2006.01)