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本发明提出一种光纤光栅的刻写方法、装置及光纤光栅，包括确定待刻写光纤光栅的折射率调制区域形状及尺寸；根据待刻写光纤光栅的折射率调制区域尺寸确定飞秒激光的平均功率以及飞秒激光的光束直径；确定待刻写光纤光栅的折射率调制区域在光纤内部的位置，确定折射率调制区域的初始刻写位置；飞秒激光从z轴方向入射并聚焦到待刻写光纤光栅的光纤内部的初始刻写位置，同时控制光纤沿y轴方向匀速移动设定距离，完成单平面的具有所述折射率调制区域形状及尺寸的光纤光栅的刻写。本发明有效提高了逐面刻写光纤光栅的加工效率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117849939A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202410019787.X
(22)申请日2024.01.05
(71)申请人中国人民解放军国防科技大学
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