一种OPC修正方法、装置及掩膜版结构.pdfVIP

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2024-04-06 发布于四川
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一种OPC修正方法、装置及掩膜版结构.pdf

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本发明提供了一种OPC修正方法、装置及掩膜板结构，应用于半导体技术领域。其首先对测试版图中的正方形图形进行辅助图形添加，并得到第一仿真图形，然后利用预设公式分别为正方形图形设置一图形形貌参数，以确定出周边区域添加有辅助图形后的正方形图形的实际曝光图形与圆形图形的相似度，即评估出通孔结构在周边环境影响下的整体形貌，然后筛选出实际曝光图形与圆形图形相比相差较大的正方形图形，并将其沿着仿真图形上关键尺寸CD偏小的方向旋转，从而弥补通孔结构所对应的正方形图形在OPC修正中其周边环境的不对称对其形貌的影响

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117826524A

(43)申请公布日2024.04.05

(21)申请号202410245576.8

(22)申请日2024.03.05

(71)申请人合肥晶合集成电路股份有限公司

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