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一种装置,其包括处理室,其中所述处理室包括:窗,其中该窗包括介电材料,所述介电材料对射频(RF)能量是透射性的,其中所述窗具有第一侧和与所述第一侧相对的第二侧;套环组件,该套环组件具有被所述窗覆盖的孔,其中所述套环组件支撑所述窗的所述第一侧;以及一或更多个RF线圈,所述一或更多RF线圈位于所述窗的所述第二侧上方,其中,当沿垂直于所述窗的第一轴观察时,所述一或更多个RF线圈的最外部分与所述套环组件的导电部分的最内部分之间的径向距离大于或等40mm,其中所述套环组件的所述导电部分的所述最内部分与第一
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117795640A
(43)申请公布日2024.03.29
(21)申请号202280054867.8马拉克·科贾斯特桂哲邱华潭
(22)申请日2022.08.05
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