1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

一种MIM电容制造方法.pdfVIP

一种MIM电容制造方法.pdf

    1. 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
    2. 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
    3. 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
    4. 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
    5. 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
    6. 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
    7. 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
    查看更多
    本申请公开了一种MIM电容制造方法，包括：提供一衬底，所述衬底中形成有金属层，所述金属层集成MIM电容的下极板；在所述衬底表面依次沉积介质层和绝缘层；采用光刻和刻蚀工艺，在所述绝缘层和介质层中形成沟槽；在所述沟槽和绝缘层上方沉积上极板金属层；去除位于所述沟槽外的所述上极板金属层，以形成所述MIM电容的上极板；进行后续工艺，以形成金属连接。本申请通过上述方案，能够节约生产成本。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117650130A

    (43)申请公布日2024.03.05

    (21)申请号202311365547.7

    (22)申请日2023.10.20

    (71)申请人华虹半导体（无锡）有限公司

    地址

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    知识产权出版社 + 关注
    官方认证
    文档贡献者

    知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

    咨询Ta 进入空间
    版权声明书
    用户编号：5333241143000144
    认证主体北京中献电子技术开发有限公司
    IP属地四川
    统一社会信用代码/组织机构代码
    91110108102011667U
    输入想法，1秒生成专业PPT

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >