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本发明公开了一种选择性激光烧结制件表面优化的方法，包括如下步骤：(1)对选择性激光烧结制得的高分子制件表面进行喷砂处理，经喷砂处理后高分子制件的表面粗糙度在5～30μm之间；(2)将喷砂处理得到的高分子制件放置于后处理箱中，将后处理箱的温度升至50～320℃，再在高分子制件的表面喷洒一层炭黑，后激光器对高分子制件的外表面进行至少一次扫描，使高分子制件的外表面被融化，形成光滑的外表面，经激光器扫描处理后高分子制件的表面粗糙度在0.5～2μm之间。本发明能够有效地去除高分子制件表面的粉末和杂质，提高
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117507425A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202311643078.0
(22)申请日2023.12.04
(71)申请人湖南华曙新材料科技有限责任公司
地
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