一种聚集体宽分布高分散二氧化硅的方法.pdfVIP

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2024-02-07 发布于四川
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一种聚集体宽分布高分散二氧化硅的方法.pdf

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本发明公开了一种聚集体宽分布高分散二氧化硅的方法，所述制备方法包括以下几个步骤：S1先选用模数为3.0‑3.5的硅酸钠为原材料，配置浓度为18‑22wt％的硅酸钠溶液，加入反应釜作为反应底液；S2设定反应温度50‑60℃，搅拌速率60‑70r/min，在反应底液中加入分散剂烷基酚聚氧乙烯醚，再加入8‑15wt％的稀硫酸溶液，直至反应pH在8‑9范围内停止加酸；S3同时加入一定量的硅酸钠与硫酸溶液，搅拌速率设定60‑70r/min，在60min内将反应体系温度升至80‑90℃范围内，并控制反应体系

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117509653A

(43)申请公布日2024.02.06

(21)申请号202311276718.9

(22)申请日2023.10.06

(71)申请人确成硅化学股份有限公司

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