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本申请涉及工业生产技术领域，特别涉及一种双等离子激发源的离子扩渗设备及其设计方法，其中，包括：设备本体；空心阴极装置，用于根据直流辉光放电效应在所述空心阴极装置内部产生第一等离子体；至少一个射频放电线圈，用于在线圈通以频率大于预设频率的高频交流电时，通过电感耦合等离子体方式在所述空心阴极装置内部产生第二等离子体，并与所述第一等离子体耦合得到第三等离子体，利用所述第三等离子体在所述设备本体内进行渗氮生成渗氮层，以实现离子扩渗。由此，解决了相关技术中等离子激发设备由于等离子体密度不足，无法有效制备渗
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN115305436A
(43)申请公布日2022.11.08
(21)申请号202210938796.X
(22)申请日2022.08.05
(71)申请人清华大学
地址100084北京
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