一种图形化衬底的制备方法.pdfVIP

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2024-01-10 发布于四川
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一种图形化衬底的制备方法.pdf

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本发明涉及一种图形化衬底的制备方法，该制备方法包括：S1、在衬底上涂布光刻胶并烘干；S2、在所述光刻胶上铺设软性衍射光罩，并进行曝光和显影，在所述光刻胶上形成光刻胶掩膜图形；所述软性衍射光罩在面向所述光刻胶的一侧上具有多个阵列排列的衍射凹槽，所述衍射凹槽的底面为透光面；所述衍射凹槽使得曝光时的光线能量在衍射凹槽的下方呈现向心式递减；S3、对形成所述光刻胶掩膜图形的衬底进行干法刻蚀。通过上述技术方案，可达到快速制造图形化衬底的目的，利用软性衍射光罩制备图形化衬底时，可以节省刻蚀时间。本发明所制得的

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117373902A

(43)申请公布日2024.01.09

(21)申请号202311186631.2H01L21/027(2006.01)

(22)申请日2023.09