四曲等高微晶盖板抛光设备.pdfVIP

下载本文档

1
0
约1.45万字
约 13页
2024-01-10 发布于四川
举报
版权申诉

四曲等高微晶盖板抛光设备.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本发明的四曲等高微晶盖板抛光设备包括：真空系统及研磨系统，所述真空系统用于提供负压，并通过负压将产品固定在治具表面；所述研磨系统包括治具以及位于治具上方的研磨件，其中，所述治具与所述研磨件在研磨时进行相对转动的同时，所述研磨件本身进行自转。本发明的抛光设备研磨件与治具产品在研磨时进行正反相对转动，研磨件本身同时进行自转，该研磨方式对四曲等高微晶盖板凹面的更有利，能研磨到四个死角使产品表面无桔纹不良和PV值不良。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117359483A

(43)申请公布日2024.01.09

(21)申请号202311567440.0B24B57/02(2006.01)

(22)申请日2023.11.