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本发明提供了一种光刻机光栅测量标定系统,涉及光栅测量技术领域,包括机架、运动方向相互独立的运动系统、平面光栅组件、光栅读数头组件、激光干涉仪组件、跟随运动系统、真空波纹管组件和反射镜组件,所述真空波纹管安装在跟随运动系统上,并且位于对应的激光干涉仪和反射镜之间,所述跟随系统固定在机架上,并跟随运动系统运动;光栅读数头组件和平面光栅组件分别固定在运动系统的X向和Y向上。光栅读数头与平面光栅相互配合并实时反馈被标定件X向、Y向直线位移量以及分别绕X轴、Y轴、Z轴的旋转角度,对比光栅读数头和激光干涉仪
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117367746A
(43)申请公布日2024.01.09
(21)申请号202311126242.0
(22)申请日2023.09.01
(71)申请人清华大学
地址100084
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