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本发明涉及微纳制造技术领域，更具体的，涉及一种基于线状光场加工高长宽比微结构的加工方法、系统。本发明预先搭建光场发生装置，并生成线状光场；再将线状光场垂直入射到涂有光刻胶的待加工样品上，然后控制线状光场完成至少一次曝光，即可在垂直入射处加工出高长宽比微结构。本发明基于光束调制器加载相位图的方式，调控飞秒激光生成线状光场，并将线状光场入射到涂有光刻胶的待加工样品上，只需要单次曝光就可以加工高长宽比微结构；另外，配合待加工样品按需移动，还可以在待加工样品面上制造出复杂分布的高长宽比微结构；本发明的加
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117348355A
(43)申请公布日2024.01.05
(21)申请号202311290124.3
(22)申请日2023.10.08
(71)申请人安徽大学
地址230601
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