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本文中的技术包括形成直写可调应力膜的方法和使用所述应力膜校正晶片弯曲的方法。该方法可以在涂布机显影机工具或基于轨道的工具上执行。应力膜可以基于在外部刺激下经历交联/解交联的膜，其中直写通过但不限于365nm曝光实现，并且随后的固化用于“图案化”应力。可能不需要显影步骤，这在保持膜平坦性方面提供了额外的显著益处。弯曲量(或产生或影响弯曲特征的内应力)可以通过曝光剂量、烘烤温度、烘烤时间和烘烤次数来调谐。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117321735A
(43)申请公布日2023.12.29
(21)申请号202280028480.5(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限
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