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2023-12-30 发布于四川
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本发明涉及一种设置对于多个基板可执行沉积、蚀刻、热处理等的基板处理的基板处理装置。本发明公开了一种基板处理装置，包括：反应管(100)，形成处理空间(S1)，所述处理空间(S1)容纳多个基板(1)并且执行基板处理；喷嘴设置部(200)，在所述反应管(100)侧面一部分向外侧方向凸出配置，以形成所述反应管(100)外面一部分；多个气体喷嘴(300)，以垂直方向沿着所述基板(1)周围配置在所述喷嘴设置部(200)，以向所述反应管(100)内喷射工艺气体；其中，所述喷嘴设置部(200)形成有多个插入部

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117305809A

(43)申请公布日2023.12.29

(21)申请号202211606377.2

(22)申请日2022.12.14

(30)优先权数据

10-2022-0078339