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在此提供一种快闪存储器装置及其制造方法。此方法包括形成多个隔离结构于基板中。两个相邻的隔离结构之间形成顶部宽度小于底部宽度的开口。此方法包括沉积第一硅晶种层于基板上，以及进行第一循环。第一循环包括进行第一沉积工艺，以共形地形成第一非晶硅层于第一硅晶种层上，且第一非晶硅层定义出第一凹口；之后，进行第一原位氯化刻蚀工艺，以拓宽第一凹口的口径。此方法包括进行第一热退火工艺，以将第一非晶硅层转变为第一多晶硅层。此方法包括进行非晶硅沉积工艺，以形成非晶硅层于第一多晶硅层上且完全填满开口。本发明能够提升快闪
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117320450A
(43)申请公布日2023.12.29
(21)申请号202210766557.0
(22)申请日2022.07.01
(30)优先权数据
1111223702022.
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