混液装置和半导体工艺设备.pdfVIP

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2023-12-23 发布于四川
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混液装置和半导体工艺设备.pdf

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本发明公开一种混液装置和半导体工艺设备，所公开的混液装置包括第一输液管、第二输液管、混液容器和第一溢流管路；其中：第一输液管的排液端部和第二输液管的排液端部均与混液容器连通，第一溢流管路的溢流入口与混液容器连通，且第一溢流管路的溢流入口位于混液容器的预设高度，第一溢流管路设有第一开关阀；第一输液管用于向处在排空状态的混液容器内输送第一液体，以使第一液体的实际液位大于预设高度以及第一液体可从第一溢流管路的溢流入口排出；第二输液管设有第一计量设备，在实际液位降至预设高度的情况下，第二输液管用于向混液

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN115178120A

(43)申请公布日2022.10.14

(21)申请号202210884013.4

(22)申请日2022.07.26

(71)申请人北京北方华创微电子