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本申请公开了一种CVD晶圆反应电场发生机构,包括第二作业板和供电装置,通过供电装置对第二作业板通电,第二作业板用作电场发生器、能够构建电场从而促进气相沉积反应;供电装置包括电源、导电条、第一导电块、第二导电块和导电片,电源供电,电流通过导电条、第一导电块、第二导电块和导电片作用于第二作业板;第一导电块和第二导电块中的一者的接触端设置为凸状、另一者的接触端设置为凹状;第二作业板上设有容纳槽,导电片处于容纳槽中;通过设置导电条、第一导电块、第二导电块和导电片,既适应了箱体与盖体的开合结构、提高了设备
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117248200A
(43)申请公布日2023.12.19
(21)申请号202311516811.2
(22)申请日2023.11.15
(71)申请人无锡尚积半导体科技有限公司
地址
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