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本申请涉及一种镀膜腔室以及镀膜设备，包括：腔体，腔体包括相对设置的盖板和底板、以及位于盖板和底板之间的侧壁，盖板、底板和侧壁围成反应腔，腔体设有进气口和出气口；载板，设于反应腔内且具有用于盛放待处理物的承载面；以及匀流装置，设置于反应腔内且间隔设置于进气口和出气口中的至少一者与载板之间；匀流装置包括匀流板和匀流件，匀流板上贯穿形成有多个匀气孔，匀流件设置在匀流板面向载板的一面；匀流件至少覆盖一个匀气孔且与匀气孔连通，匀流件的侧面设置气道口，气道口的气流方向与匀流板主平面之间的夹角A满足：0度≤A
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117248193A
(43)申请公布日2023.12.19
(21)申请号202311527040.7
(22)申请日2023.11.16
(71)申请人江苏微导纳米科技股份有限公司
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