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本申请提供了一种涂胶显影设备,包括:冷却单元,用于对涂有光刻胶的待加工元件进行冷却;量测单元,包括:光感模块,至少部分可移动地设于所述冷却单元所在的工作空间内;和控制模块,与所述光感模块连接;在所述冷却单元对所述待加工元件的冷却过程中,所述光感模块与所述控制模块配合以用于量测所述光刻胶的膜厚。因此,冷却工序与所涂覆的光刻胶的膜厚量测工序可以直接在冷却单元所在的工作空间内一次性完成,而无需在完成冷却工序后再将涂有光刻胶的待加工元件转移至其他机台进行膜厚量测。由此,可以充分利用冷却单元所在的机台同时
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117215157A
(43)申请公布日2023.12.12
(21)申请号202311077453.X
(22)申请日2023.08.23
(71)申请人武汉新芯集成电路制造有限公司
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