磁控溅射设备、双轴驱动装置以及真空设备.pdfVIP

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2023-11-25 发布于四川
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磁控溅射设备、双轴驱动装置以及真空设备.pdf

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本发明公开了一种磁控溅射设备、双轴驱动装置以及真空设备。磁控溅射设备包括：镀膜腔，镀膜腔的内部的上方具有靶材；双轴驱动装置，与镀膜腔隔开并设置在镀膜腔的上方，双轴驱动装置具有：第一驱动部，沿第一方向驱动，第二驱动部，沿与第一方向正交的第二方向驱动，联接部，分别与第一驱动部以及第二驱动部连接，联接部具有第一调节单元以及第二调节单元，第一调节单元与第一驱动部连接并沿第二方向可自由调节，第二调节单元与第二驱动部连接并沿第一方向可自由调节；磁控元件，与镀膜腔隔开并位于靶材的上方，磁控元件安装到第一调节单

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117107201 A (43)申请公布日 2023.11.24 (21)申请号 202310980213.4 (22)申请日 2023.08.04 (71)申请人深圳市矩阵多元科技有限公司地址