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本发明公开了一种提高磁过滤镀膜均匀性的磁场装置及磁过滤镀膜设备，其中装置包括：旋转筒，设置在转架上且位于呈环状分布的若干工件载架中，旋转筒的旋转方向与转架的旋转方向相反或者旋转筒的旋转方向与转架的旋转方向相同但旋转筒的旋转速度与转架的旋转速度不同；若干个永磁体，若干个永磁体设置在旋转筒的外周面且呈至少两排设置，每一排中的永磁体相互间隔且与不同排中的永磁体相互错开。本发明可规律性地调节过滤弯管到待镀工件之间的磁力线偏转方向，从而能够引导涂层离子上下扫描式沉积，不仅扩大了有效涂覆面积，从而提高了待镀
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115161602 A (43)申请公布日 2022.10.11 (21)申请号 202210847487.1 (22)申请日 2022.07.19 (71)申请人 广东鼎泰机器人科技有限公司 地址
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