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干膜光致抗蚀剂的技术条件.docx

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    干膜光致抗蚀剂的技术 条件 Corporation standardization office #QS8QHH-HHGX8Q8-GNHHJ8 干膜光致抗蚀剂的技术条件 印制电路制造者都希望选用性能良好的干膜，以保证印制板质量， 稳定生产，提高效益。生产干膜的厂家也需要有一个标准来衡量产 品质量。为此在电子部、化工部的支持下， 1983 年在大连召开了光 致抗蚀干膜技术协调会议，制定了国产水溶性光致抗蚀干膜的总技 术要求。近年来随着电子工业的迅速发展，印制板的精度密度不断 提高，为满足印制板生产的需要，不断推出新的干膜产品系列，性 能和质量有了很大的改进和提高，但至今国产干膜的技术要求还

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