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本发明公开了一种原子层沉积设备的沉积腔室，涉及原子层沉积技术领域。本发明，包括底架，所述底架顶面固定安装有沉积腔室，所述沉积腔室的表面设置有用于对沉积腔室内部的废气进行排出的排气机构，所述底架的内部设置有用于金属有机气体、反应气体以及冲洗气体进行充入的进气管道，所述底架的表面设置有用于升降机构，且升降机构的相对面设置有底板。本发明通过进气管道使得对沉积腔室的内部依次的充入金属有机气体、反应气体以及冲洗气体使得对基底进行原子层沉积，在进行原子层沉积时，通过排气机构使得对沉积腔室的内部的废气进行排出
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116837351 A (43)申请公布日 2023.10.03 (21)申请号 202311063579.1 (22)申请日 2023.08.23 (71)申请人 东领科技装备有限公司 地址 21
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