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本发明涉及激光诱导蚀刻技术领域，特别涉及一种MEMS光学级空腔盖板加工方法。其包括以下步骤：S1.选取所需尺寸的光学盖板，将表面清洗干净；S2.采用PVD工艺在光学盖板表面沉积金属膜；S3.在光学盖板的一侧单面涂覆负性光刻胶；S4.将含有图样的盖板覆盖在光刻胶表面进行曝光、显影，露出图形化的金属层，S5.蚀刻金属膜制作掩膜板；S6.将高功率红外激光调制为空间结构光，辐照掩膜板表面，同时在Z轴方向上升降；S7.采用湿法蚀刻将改性部分蚀刻至所需深度，通过控制辐照改性区深度及调整蚀刻时间以控制蚀刻深度
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116812858 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310675002.X (22)申请日 2023.06.08 (71)申请人 深圳市圭华智能科技有限公司 地址
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