一种掩模版组及应用该掩模版组的曝光设备.pdfVIP

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2023-09-30 发布于四川
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一种掩模版组及应用该掩模版组的曝光设备.pdf

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本申请提供一种掩模版组及应用该掩模版组的曝光设备，应用于半导体和泛半导体制备技术领域，该掩模版组通过在工作掩模版和工作光源之间设置防护掩模版，并在工作掩模版和/或防护掩模版上设置透明加热系统，可显著减少到达工作掩模版的无效光刻能量，防止掩模版热膨胀造成的光刻图案畸变；并可尽快达到掩模版的热平衡，保持掩模版温度稳定，提升工艺稳定性，减少准备时间，提高生产效率、降低次品率，具有极高的市场应用前景。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116819882 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310610593.2 (22)申请日 2023.05.29 (71)申请人深圳智达星空科技（集团）有限公司