一种连续真空沉积镀膜设备.pdfVIP

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2023-09-30 发布于四川
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一种连续真空沉积镀膜设备.pdf

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本发明公开了一种连续真空沉积镀膜设备，包括镀膜室，镀膜室的一端设有卷材入口，镀膜室的另一端设有卷材出口；所述的镀膜室内设有支撑辊；支撑辊用于支撑柔性卷材，以形成待镀覆表面；张力调节辊；支撑辊相对的设置有由靶材支架支撑的靶材；还包括有等离子体发生装置，等离子发生装置产生的等离子体通过支撑辊和靶材之间的空隙区域；还包括有偏压板，偏压板沿着垂直于支撑辊轴线的方向包括有多个平行电压区域，平行电压区域之间互相电绝缘。本发明的设备所制产品质量高，均匀性好。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116815152 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310850242.9 (22)申请日 2023.07.11 (71)申请人安徽立光电子材料股份有限公司地址