一种碱性清洗液.pdfVIP

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2023-09-30 发布于四川
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本发明公开了一种碱性清洗液。本发明的碱性清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.01‑30％有机碱、0.001‑4％酸、缓蚀剂、螯合剂、表面活性剂以及水，水补足余量，各组分质量分数之和为100％；所述的表面活性剂为非离子型双子表面活性剂；所述的有机碱与所述的酸的质量比为(12‑18):1。本发明的碱性清洗液具有如下的一个或多个优点：具有较好的清洗效果，可以抑制半导体晶圆的损伤，具有较好的BTA清除效果。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116814340 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310795355.3 (22)申请日 2023.06.30 (71)申请人上海新阳半导体材料股份有限公司地