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本发明公开了一种可实现紫外线自清洁的超构表面制备方法，涉及自清洁材料技术领域，其技术方案要点是：包括：将ITO玻璃基片分别在丙酮、异丙醇以及去离子水的超声中清洗，清洗结束后在干净的氮气流中干燥；将ITO玻璃基片移入到电子束蒸镀机的真空腔室中，并放置8小时；当腔室内的真空度达到预设值以下时，使高能电子束轰击二氧化钛靶材表面使其加热融化并蒸发，然后沉积到ITO玻璃基片基底上，ITO玻璃基片的基底上蒸镀得到二氧化钛薄膜。在本发明中，能够通过将光化学和纳米光子学结合到二氧化钛纳米结构中，以解决长期困扰研
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116815130 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310819693.6 C23C 14/18 (2006.01) (22)申请日 2023.07.
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