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本发明提供一种聚酰亚胺薄膜被动滤光器件及其制备方法,该制备方法包括:提供半导体基底,并于半导体基底的正面依次形成介质层及聚酰亚胺薄膜层;于聚酰亚胺薄膜层上形成阻挡层;于阻挡层上形成第一图形化的光刻胶层,得到薄膜外轮廓的光刻图形;基于第一图形化的光刻胶层依次刻蚀阻挡层、聚酰亚胺薄膜层及介质层;于半导体基底的背面形成第二图形化的光刻胶层,得到薄膜内轮廓的光刻图形;基于第二图形化的光刻胶层采用深反应离子刻蚀工艺刻蚀半导体基底,形成刻蚀窗口;基于刻蚀窗口,采用干法刻蚀工艺去除介质层,得到聚酰亚胺薄膜被动
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116779207 A (43)申请公布日 2023.09.19 (21)申请号 202210226292.5 (22)申请日 2022.03.09 (71)申请人 中国科学院上海微系统与信息技术
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