掩膜板的形成方法.pdfVIP

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2023-09-20 发布于四川
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掩膜板的形成方法.pdf

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一种掩膜板的形成方法，包括：提供基底；在基底上形成遮光材料层；在遮光材料层上形成吸收层，所述吸收层材料的原子核半径小于所述遮光材料层材料的原子核半径；在吸收层上形成光刻胶材料层；对所述光刻胶材料层进行曝光处理；对所述曝光后的光刻胶材料层进行显影处理，在吸收层上形成图形化的光刻胶层。所述方法形成的掩膜板的图形精度得到提升。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116774514 A (43)申请公布日 2023.09.19 (21)申请号 202210233150.1 (22)申请日 2022.03.09 (71)申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限