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第四章 有机硅化学起始原料;所有的有机硅起始原料都来自于石英;硅
(工业硅);单质硅的冶炼过程;;SiCl4应用;SiCl4的制备;HSiCl3应用;HSi(OR)3应用;Si(OR)4应用;其它无机起始原料;有机氯硅烷原料;;直接法合成甲基氯硅烷机理;化学吸附机理(接触催化机理) [1956年克列班斯基];16;17;;甲基氯硅烷的生产装置;;硅粉组成中通常会有些杂质,对合成影响不大,比如Fe对反应活性无害,在0.5%以下还有助催化作用,Al也不是毒物,但对提高Me2SiCl2含量不利,必须控制在0.2%以下。通常认为直接法合成氯硅烷应该用有杂质指定含量的化学硅。
硅粉表面控制方法:
a. 就宏观控制来说,与Si粉磨细加工时氧化程度及Si粉的粒度有关;
b. 就微观控制来说,在反应速度降低时,可通入HF,使其表面新鲜;
c. 在床体结构设计中,也要避免Si粉严重磨损而产生细小颗粒,使分散性变差,对提高活性表面积和散热都不利,故需将产生的小颗粒从反应器顶部吹出。;不同的金属及其化合物作为催化剂用于不同烃基卤硅烷合成
Cu及其化合物用于甲(乙基)氯硅烷合成
Ag及其化合物用于苯基氯硅烷合成
Sn及其化合物用于乙烯基氯硅烷合成
铜系催化剂的活性、寿命及选择性既与催化剂自身化学组成有关,也与温度、晶体结构及与硅的紧密接触程度有关。铜系催化剂制备或处理方法对催化有很大影响。
晨光化工研究院制备10μmCu-Cu2O-CuO三元铜系催化剂具很好催化效果。;23;卤代烃及其添加剂;25;直接合成反应为放热反应,放热量80kCal/mol Me2SiCl2,反应温度对产物组成影响明显。
当反应温度大于300℃,随温度上升,Si-Cl含量上升而Si-C含量下降,即温度升高(CH3)2SiCl2含量下降,CH3SiCl3及CH3SiHCl2含量上升;且总的硅转化率下降。
温度控制问题是工程上特别需要注意的问题。;直接法合成甲基氯硅烷时,副产物多,组份多(41个),沸点差距小,有些化合物还形成共沸物。;共沸物成分;用于合成下游产品(特别是硅橡胶)要求纯度高(99.95%)。
尽量使主要产物Me2SiCl2、MeSiCl3、Me3SiCl、MeHSiCl2、Me2HSiCl、SiMe4,得到较纯的产品供下游产品使用。
纯化方法
a. 一般精馏法
b. 共沸分馏法
c. 萃取分馏法
d. 化学分离法;;31;直接法合成其它氯硅烷
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