可确保移除量一致的抛光刷.pdfVIP

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2023-08-19 发布于四川
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本实用新型涉及抛光工具领域的可确保移除量一致的抛光刷，包括基材层和设置于基材层底面的抛光层，抛光层共分为同心的内圆环抛光区和外圆环抛光区，外圆环抛光区位于内圆环抛光区的外围，内圆环抛光区和外圆环抛光区均设有若干根直立安装的抛光齿，抛光机工作时带动抛光刷整体做圆周运动，设置两种不同硬度的抛光区，将内圆环抛光区的硬度设置为小于外圆环抛光区的硬度，在不同线速度的客观条件下，可保证放置于抛光机下盘所对应不同位置的玻璃产品在抛光过程中能保持一致的移除量，从而避免抛光机在抛光过程需要停机更换不同位置的玻璃产

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210139311 U (45)授权公告日 2020.03.13 (21)申请号 20192