SJT 10274-1991掩模对准曝光机测试方法.pdf

L 10SJ中华人民共和国电子工业行业标准SJ/T 10274-91掩模对准曝光机测试方法1991-11-12 发布1992-01-01实施中华人民共和国机械电子工业部发布 中华人民共和国电子工业行业标准掩模对准曝光机测试方法SJ/T 1027491Test methods of mask alignmentand exposure system1主题内容与适用范围本标准规定了测试掩模对准曝光机（以下简称“曝光机”）的一般要求和方法。本标准适用于接触式和接触一接近式曝光机。2引用标准GB 11481掩模对准曝光机通用技术条件GB 7237铬版GB 4857.9运输包装件基本试验喷淋试验方法GB 5398大型运输包装件试验方法3术语除下列术语外，本标准所用有关术语按GB11481第3章规定。3.1定时误差采用定时系统控制曝光量时，实际曝光时间与设定曝光时间的相对误差3.2定时重复性误差定时系统曝光时间设定后，实际曝光时间的离散度，用实测曝光时间的相对误差表示。3.3光量积分系数采用光积分方法控制曝光量时，实际曝光量与相应挡次标称值比应为定值，这一值称为光量积分系数。3.4光量积分误差光量积分系数与每设定积分档次下积分系数值的相对误差。3.5光量重复性误差积分系统积分档次设定后，光强发生变化时，实际曝光量的离散度，用实际曝光量的相对误差表示。3.6恒光强波动度1992-01-01实施中华人民共和国机械电子工业部1991-11-12批准1 SJ/T 10274--91恒光强系统进入热稳定状态后，曝光光束光强值的变化程度，用在规定时间内实际光强值的相对误差表示。3.7曝光间隙误差接近式曝光的实际曝光间隙与设定曝光间隙标称值的相对误差。3.8曝光间隙重复性误差曝光间隙设定后，实际曝光间隙值的离散度，用实测曝光间隙的相对误差表示。4试验条件4.1环境条件4.1.1试验期间的环境条件应达到相应标称分辨率的要求，见表1(在不影响曝光机性能的前提下，一般测试可参照表1要求，适当降低指标）。4.1.2工作间内不得有腐蚀性气体。4.1.3对带有计算机的曝光机，还应按有关要求，进行电磁屏蔽。表1温度℃滕光分辨率相对湿度洁净度振动幅度umμm%冬季夏级季波动范围10Hz《10Hz≤1.0±0. 510211. 0~3. 0±1. 010031. 5202535~503. 0~5. 0±2. 010031. 55. 0±22电源条件4.2.1试验期间，电源电压的波形畸变率不超过10%，电源电压的波动值不超过±10%。4.2.2试验期间，电源频率的波动值不得超过士1%。4.3气压条件4.3.1试验期间，气动系统的供气气压不得低于额定值的5%。4.3.2试验期间，真空系统的压力不得超过额定值的5%。4.4测量仪器仪表测试所用的仪器仪表应经计量检定合格，并在其有效期内。4.5试验器材4.5.1基片测试用基片选用硅研磨片，应满足曝光机标称曝光分辩率的要求。4.5.2掩模版测试用掩模版应满足曝光机标称分辨率的要求，其质量应符合GB7237的规定。4.5.3光致抗蚀剂按曝光机的有效谱线选用正性光致抗蚀剂。2 SJ/T10274-915试验方法5.1环境条件检查5.1.1温度、相对湿度检查试验期间，用精度不低于1级的干湿球湿度计每4h测试一次环境的温度、相对湿度。干湿球湿度计置放位置如图1所示。应置放在与工作台高度一致，没有气流的地方。承片台d图1干湿球湿度计置放位置示意图5.1.2洁净度检查试验期间，每4h测试一次洁净度。选用测试精度能满足相应洁净度等级的光学粒子计数器检测有效工作区域的洁净度。取样位置如图2所示。承片台图2.光学粒子计数器取样位置示意图5.1.3地面振动检查试验期间，测试一次地面振动幅度，振动分析仪的拾振装置应置放于工作台机座附近。5.2外观检查5.2.1用目视法进行外观质量检查。3 SJ/2.2用手感方法检查移动机构的空位及运动情况。5.3安全检查5.3.1用自动击穿装置在500V直流电压下，测量初级线路与机壳之间的绝缘电阻。5.3.2用自动击穿装置在1500V、50Hz交流电压下，测量漏电流值。试压1min，观察有无击穿和放电现象。5.3.3用目视法检查接地标志。5.4显微镜检查5.4.1调节显微镜的目镜、物镜，用手感及目视法检查目镜、物镜中心距调节性能、光轴平行性、左右视场的齐焦程度以及左右显微镜倍率的一致性。调节显微镜视场亮度，用目视法检查视场的亮度变化及清晰度。5.4.2调节显微镜，选择相应分辨率版，通过能识别的线宽，检查显微镜的分辨能力是否满足曝光机标称分辨率的需要。5.4.3调节显微镜物镜与基片相对位置，用1级干分表测量能识别相应线宽的调节范围。此调节范围即为显微镜焦深。5.5曝光系统检查5.5