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本发明公开了一种管状物内壁双辉等离子处理装置，包括电极杆和底盘；底盘通过第一陶瓷支柱与靶材托盘相连，底盘通过第二陶瓷支柱与工件托盘相连；靶材托盘上设置靶材一及靶材二，靶材一、靶材二为圆盘形；工件托盘上预留与工件内径相等的孔，工件托盘上还设置空心保温罩，靶材一、靶材二中间位置设置工件，靶材一、靶材二、工件、空心保温罩的中心线重合；靶材托盘与电极杆一相连，工件托盘与电极杆二相连。本发明还公开了一种管状物内壁双辉等离子处理装置的处理方法。本发明的两个金属靶材外壁和管状物内壁为等间距，位于管状物的上下两
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116516303 A (43)申请公布日 2023.08.01 (21)申请号 202310091775.3 C23C 14/58 (2006.01)
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