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本发明提供了一种OLED用掩膜版清洗剂,由含氟有机酸、有机膦系螯合剂和阴‑非离子表面活性剂复配组成,能有效解决现有技术中Mask在Ag/Mg蒸镀后的难以对表面、边缘及开孔清洗干净,从而导致的产品良率及性能不佳,Mask材料被腐蚀,降低使用寿命等问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113862088 A (43)申请公布日 2021.12.31 (21)申请号 202111255871.4 (22)申请日 2021.10.27 (71)申请人 福建
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