一种采用退镀工艺制备图案化电极的方法.pdfVIP

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2023-07-08 发布于四川
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一种采用退镀工艺制备图案化电极的方法.pdf

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本发明公开了一种采用退镀工艺制备图案化电极的方法及其图案化电极，其方法过程为：在表面绝缘基底上溅射导电种子层；在溅射完导电种子层电镀上金属膜；在金属膜表面旋涂光刻胶，采用光刻法在金属膜表面光刻出电极图案；采用退镀法进行处理，使得没有被光刻胶保护的金属膜和导电种子层被反应溶解，有光刻胶的部分被保留下来；退镀后进行超声清洗，去除光刻胶和金属碎屑残留物，得到图案化电极。本发明省去了湿法刻蚀环节，从而避免了湿法刻蚀所带来的种种问题。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113862770 A (43)申请公布日 2021.12.31 (21)申请号 202111140314.8 C25D 3/38 (2006.01)