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本发明公开了一种光催化产过氧化氢反应中空穴氧化电子供体反应机理的分析方法,包括以下步骤:构建待研究光催化剂的模型,根据待研究光催化剂对应模型中不同修饰位点对应的氧化还原能力以及各个亮激发中电子和空穴分布的位置,进行反应路径的模拟,分析待研究光催化剂产过氧化氢反应中空穴氧化电子供体的反应机理。本发明分析方法具有普适性强、效率高、成本低、准确等优点,能在高准确性的前提下确定不同修饰位点的空穴对过氧化氢的产生的具体作用和影响反应的关键因素,进而高效地分析出各种光催化产过氧化氢反应中空穴氧化电子供体的反
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113724798 A (43)申请公布日 2021.11.30 (21)申请号 202111028180.0 (22)申请日 2021.09.02 (71)申请人 湖南大学 地址 41
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