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本发明公开了一种法拉第屏蔽装置、等离子体刻蚀系统及其使用方法,所述法拉第屏蔽装置包括法拉第屏蔽板和加热电路;所述法拉第屏蔽板包括导电环和多个辐射对称连接在导电环外周的导电瓣状件;所述加热电路用于刻蚀工艺时,通电加热法拉第屏蔽板。本发明当刻蚀工艺时,导通加热电路与法拉第屏蔽板,使法拉第屏蔽板通电温度升高,加热介质窗,减少产物的沉积量;由于法拉第屏蔽板与介质窗直接接触,加热效率高,热量散失少,简化了设备结构;当清洗工艺时,关闭加热电路与法拉第屏蔽板,法拉第屏蔽板接入屏蔽电源,对介质窗进行清洗;所述加
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113745085 A (43)申请公布日 2021.12.03 (21)申请号 20201
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