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本发明涉及一种水系剥离液组合物，包括去离子水、有机季胺化合物、有机醇胺、有机剥离溶剂、缓蚀剂、螯合助剂，并同时提供了所述一种水系剥离液组合物的使用方法，本发明主要用于去除微电子制造过程中光刻胶残留物，操作温度较低，能耗较少，在对晶圆清洗后无需IPA或NMP等中间溶剂浸泡就可以用水直接漂洗，而且由于不会对金属尤其是铝和铜造成腐蚀，安全环保，有效的降低的清洗成本。同时由于采用了多种具有协同效应的缓蚀剂成分，能非常有效的保护金属基底不受腐蚀，另外，本发明的剥离液配方本身就是一个缓冲体系，保证了剥离液在
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113741158 A (43)申请公布日 2021.12.03 (21)申请号 202010476190.X (22)申请日 2020.05.29 (71)申请人 昆山欣谷微电子材料有限公司
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