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本发明涉及薄膜加工技术领域，提供了本发明提供磁控溅射蒸发双面镀膜装置及方法，该磁控溅射蒸发双面镀膜装置，至少包括：镀膜室，沿加工基材的输送方向至少串联设置两个镀膜室，每个镀膜室内均设置有镀膜导向辊、第一溅射镀膜组件、第二溅射镀膜组件以及蒸发镀膜组件；基材在镀膜导向辊的引导下先后通过第一溅射镀膜组件、蒸发镀膜组件以及第二溅射镀膜组件，以在基材的同一面先后完成第一次溅射镀膜、蒸发镀膜以及第二次溅射镀膜。本发明提供的磁控溅射蒸发双面镀膜装置，在一个镀膜室内实现基材单面的两道磁控溅射成膜工艺以及在两者之
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116334574 A (43)申请公布日 2023.06.27 (21)申请号 202310351044.8 (22)申请日 2023.03.30 (71)申请人 洪田科技有限公司
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