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本发明公开了磁控下溅射镀膜机，属于真空镀膜技术领域；本发明通过在镀膜座上设置调节机构，调节座上设置的多个固定槽可固定多个种类的靶材，可旋转的调节座使得多个靶材之间可以切换，即可更换镀膜座内溅镀靶材的种类，并对玻璃基板上镀上相应的金属膜，无需停机更换靶材即可进行镀膜种类的更换，提高了玻璃的生产效率；通过在旋转座一侧设置两个承载座，同时在交换座两侧设置两个镀膜座，使得该镀膜机可同时对两片玻璃进行镀膜，提高了玻璃的生产效率；通过在镀膜腔底部设置分离机构，分离机构用于带动两个镀膜座与交换座分开，操作人员
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116334559 A (43)申请公布日 2023.06.27 (21)申请号 202310340833.1 (22)申请日 2023.03.31 (71)申请人 中熵科技（徐州）有限公司 地址
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